總覽

基板加熱階段需要加熱階段，例如垂直提升機(jī)構(gòu)（基板支架和加熱頭中的一個(gè)或兩個(gè)），基板旋轉(zhuǎn)，RF / DC基板偏壓（反向飛濺RF / DC清潔）和加熱部分傾斜。它是具有多種功能的“多合一”組件。我們可以滿足對(duì)半導(dǎo)體制造設(shè)備和各種真空設(shè)備（氣相沉積設(shè)備，濺射，CVD設(shè)備）的所有要求。

2寸熱舞臺(tái)_800C

晶圓托盤_提起

應(yīng)用/用例

?半導(dǎo)體制造，薄膜的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，RF / DC反濺射，PECVD，RIE等
?用熱臺(tái)（800℃說(shuō)明書→修飾以醉高1600℃）更換現(xiàn)有設(shè)備的加熱機(jī)構(gòu)
?新工藝評(píng)價(jià)機(jī)器，樣機(jī)，等

加熱部位規(guī)格

?NiCr加熱器
?Inconel加熱器
?鎢加熱器
?鉬加熱器
?鹵素?zé)艏訜崞?br />?石墨加熱器
?C / C復(fù)合加熱器
?各種涂層加熱器（PG，PBN，SiC涂層，玻璃碳）

*工作溫度和數(shù)據(jù)均為“陶瓷頂”?請(qǐng)參閱“加熱器”。

各部分名稱

熱舞臺(tái)結(jié)構(gòu)